Images for фотошаблон для литографии nzuf.sait.docsbecause.date

При контактном способе фотошаблон и пластина с нанесенным. В таблице 3.2 проведено сравнение методов литографии по основным показателям. Сами фотошаблоны изготавливаются на высокотехнологичном и дорогостоящем оборудовании с помощью методов безмасочной литографии с. Типичные технологические шаги процесса литографии на примере фотолитографии. 3- совмещение с фотошаблоном, экспонирование. Развитии литографических процессов и основные принципы их реализации. Для студентов. 3 – слой фоторезиста, 4 – фотошаблон. Таким образом. Глубокая УФ-литография с двойным экспонированием и безмасочная. Тем не менее, система отра- жающих зеркал и фотошаблоны могут поглощать. Процессов формирования топологического рисунка ИС в маскирующем слое фотошаблонов методами лазерной и электронно-лучевой литографии. Изготовление фотошаблона с помощью увеличенного оригинала с последующим фотографическим уменьшением в несколько этапов. Литография, оптическая иначе фотолитография; photolitigraphy (англ. optical. (3) слой фоторезиста; (4) фотошаблон (маска); (5) область легирования. Лучевая литография предшествует созданию на поверхности пластин кремния. или другого источника резист экспонируется через фотошаблон. При проекционной литографии (рис.3.1, б) изображение с фотошаблона переносится (проецируется) на полупроводниковую подложку. Производится экспонирование через фотошаблон. Облученные участки фоторезиста изменяют свою растворимость и их можно удалить химическим.

Фотошаблон для литографии - nzuf.sait.docsbecause.date

Яндекс.Погода

Фотошаблон для литографии